Phần Lan nghiên cứu phát triển pin mặt trời mới
Thứ năm 26/05/2011 | 10:55:00
Ảnh minh họa. (Nguồn: Internet)
Một công ty Phần Lan đã phát triển một loại pin mặt trời
kiểu mới có thể lợi dụng lớp phủ nano 3 tầng để hấp thu hiệu quả năng lượng mặt
trời.
Một công ty của Phần Lan vừa qua đã nghiên cứu phát triển một loại pin mặt trời
kiểu mới có thể lợi dụng lớp phủ nano 3 tầng để hấp thu hiệu quả năng lượng mặt
trời.
Công ty năng lượng mặt trời Savo có trụ sở tại Mikkeli cho biết loại pin
mặt trời kiểu mới này có hai sự đổi mới lớn về kỹ thuật.
Pin mặt trời được sử dụng lớp phủ nano 3 tầng dày 100nm, có tác dụng giảm
thiểu sự tổn hao năng lượng do sự phản chiếu của ánh sáng mặt trời gây ra.
Ngoài
ra, chúng còn được sử dụng “kỹ thuật dòng điện một chiều”, tức là để nước trực
tiếp tuần hoàn bên trong tấm thụ nhiệt chứ không tuần hoàn bên trong đường ống
của tấm thụ nhiệt, từ đó nâng cao hiệu suất chuyển đổi năng lượng.
Công ty Savo cho biết trong quá trình thử nghiệm tính năng hoạt động, loại
pin mặt trời mới này vẫn có thể hoạt động bình thường trong điều kiện nhiệt độ
dưới 300 độ C trong khi các sản phẩm pin mặt trời hiện này thông thường chỉ chịu
được ở nhiệt độ 220 độ C.
Theo tin tức trên, mục tiêu nghiên cứu tiếp theo của công ty Savo là nâng
cao khả năng hoạt động trong điều kiện nhiệt độ cao cho sản phẩm mới nói trên
lên tới 550 độ C.
Công ty còn có kế hoạch mang sản phẩm này tham dự triển lãm
năng lượng mặt trời tại Munich (Đức) vào tháng 6 tới và cuối năm nay sẽ chính
thức sản xuất đại trà mặt hàng này./.
Ngọc Thúy (Vietnam+)